​LAUDA Semistat产品线推出新的型号 助力半导体行业温度控制

同时，新开发的Semistat S 2400保留了生产线的机械和液压结构。该工艺恒温器还采用了热电行业的最新创新技术，如最新一代高性能Peltier元素，保证了更高的功率密度和更高的可靠性。凭借Semistat 4400，LAUDA为市场带来了全新的4.4 kW冷却输出性能等级。该工艺恒温器是专门为使用300mm晶片在低温下具有高冷却输出要求的应用而设计的。

半稳态过程恒温器已被优化为精密温度控制等离子体刻蚀应用在半导体工业。在蚀刻过程中，从晶片表面去除指定区域。动态温度控制器使位于等离子刻蚀腔内的晶片夹盘保持恒定温度，以防止温度漂移。恒温对保持稳定的蚀刻轮廓和产生高质量的表面是至关重要的。Peltier技术实现了Semistat恒温器的两个主要优势:能源和空间节约结合最大的长期运行稳定性。

新的工艺恒温器非常节能，因为它们只在需要调节刻蚀室内部温度时才控制温度并消耗能量。由于Peltier元件是唯一用于加热和冷却的组件，因此可以将恒温器的空间要求降至最低。紧凑的设计和可选的地板安装确保最小的空间占用成本高的洁净室。内部流体体积小，从设备到应用程序的软管连接较短，这意味着控制流体温度所需的能量较少。特别是温度控制液的体积小，允许快速的温度变化。Semistat温度控制系统比基于压缩机的系统节省高达90%的能源。

像它的前身一样，Semitat产品线的工作温度范围为-20到90°C，并提供±0.1 K的高温稳定性。冷却输出从1.2到4.4 kW，水冷装置可以与多种室和平台型号结合使用。

功能包括：

·低能耗的无压缩机和无制冷剂系统

·业内占地面积最小

·极少的传热流体

·全氟化液的使用

·无障碍环境得到改善，洁净室使用最少

·无需过滤器或DI组件

·高可靠性和低运营成本

·本地可交换模块，便于故障排除

·使用时动态，稳定的温度控制

·防止温度漂移，以实现稳定的蚀刻轮廓

·改善晶片间稳定性